日本第一臺ASML EUV光刻機下月運抵

　    日本即將迎來半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的一大里程碑！據(jù)書生家電網(wǎng)報道，日本先進半導(dǎo)體代工企業(yè)Rapidus訂購的第一臺ASML EUV光刻機將于2024年12月中旬抵達北海道新千歲機場。這臺先進的設(shè)備將用于Rapidus晶圓廠的試產(chǎn)，也將成為日本全國首臺EUV光刻設(shè)備。

　　EUV光刻機被譽為芯片制造業(yè)的“皇冠”，其在制造先進芯片的過程中起著至關(guān)重要的作用。ASML作為全球唯一能夠量產(chǎn)EUV光刻機的企業(yè)，其設(shè)備一直備受全球芯片制造商的青睞。此次Rapidus購入的EUV光刻機，將為日本在半導(dǎo)體領(lǐng)域的發(fā)展注入新的活力。

　　值得一提的是，Rapidus高管曾透露，此次購入的EUV光刻機屬于較早期的0.33 NA型號，而非目前全球總量不足10臺的0.55 NA（High NA）款。盡管如此，這臺設(shè)備的到來仍將大大提升日本在先進芯片制造方面的能力，并有助于日本實現(xiàn)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的復(fù)興。